真空アニール装置

真空アニール装置

管理番号
  • AKV607A
  • 特許第6056079号

商品型番:

AANL860I

概要

リッド仮付けまたはシーム溶接工程の直前に真空アニールを行う装置です。溶接工程の処理速度に合わせ、キャリア毎にアニール処理(枚葉式処理)することを可能としました。

特徴

  • 前後工程とインライン接続しトレー1枚単位で処理が可能です。
  • 1.1×10-3Paの高真空状態で、セラミックパッケージのアニールを行います。
  • Max300℃、60分の加熱を行います。
  • 搬送治具は通常トレーとクランプキャリアの両方に対応します。
  • 後工程停止時のバッファストッカを真空チャンバー内部に設けます。

仕様

対象ワーク SMD型水晶振動子、水晶発振器
トレー仕様 標準トレー 170×134㎜ (600pcs/枚 2016以下サイズの場合)
真空排気系 真空度 1×10-3Pa(ドライポンプ+ターボ分子ポンプ)
外形寸法 W1100×D1300×H1700㎜ (モニタ、表示灯及び別置きチラー除く)
  • 小型水晶振動子生産設備

  • 水晶発振器・TCXO生産設備

  • 音叉型水晶振動子生産設備

  • サーミスタ水晶振動子生産設備

  • センサーデバイス生産設備

  • 半導体関連設備

  • 移載機関連設備

  • レンズ組立装置

  • カメラモジュール関連設備